FESI3N4 NITROSILICON 질화물

FESI3N4 NITROSILICON 질화물

Itrided Ferrosilicon은 일반적으로 질화 기술을 사용한 높은 온도에서 페로 실리콘 합금 또는 단결정 실리콘으로부터 합성된다.
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설명
기술적인 매개 변수
FESI3N4 NERROSILICON 질화물 설명

 

질화 된 페로 실리콘은 일반적으로 질화 기술을 사용하는 고온에서 페로 실리콘 합금 또는 단일 결정 실리콘으로부터 합성된다. 합성 과정에서, 다음의 두 가지 요인은 결과에 크게 영향을 미칩니다. 페로 실리콘 입상 : 다른 입자 크기를 갖는 생성물의 질소 함량과 반응 온도 사이의 관계. 페로 실리콘이 더 미세할수록 샘플의 다공성이 낮을수록 비 표면적이 클수록 반응이 더 빠르고 강해집니다. 그러나, 페로 실리콘 입자들 사이의 소결 강도는 질소 확산 및 질화 효과에 직접적인 영향을 미친다는 점에 유의해야한다. 거친 입자 샘플은 특이 적 표면적이 작아서 더 안정적인 질화 및 고온에서 효율을 향상시킵니다.
질화 온도 : 고온 질화 공정은 저온 질화 방법보다 더 완전합니다.

 

 

FeSi3n4 Ferrosilicon Nitride for sale

FESI3N4 페로 실리콘 질화물 판매

 

 

 

 

FESI3N4 페로 실리콘 질화물의 사양

 

 

화학 조성 (%)
요소 si3n4 C N Fe al+ca
콘텐츠 75-80 47-51 30-33 12-16 <2,5
  70-75 49-52 28-30 12-16 <2,5
입자 크기 분포
분말 (%)
입자 크기 -45μm -45μm~-75μm +75μm~-150μm +150μm -75μm
미세 분말 >80 5-1.5 <3 0 95-100
일반 가루 70-80 10-20 8-15 <3 85-95
생 가루 60-70 10-16 10-16 <8 65-80
세분형
요소 입자 크기 퍼센트
미세 분말 3 ~ 5mm >90
일반 가루 3 ~ 10mm >90
생 가루 10 ~ 50mm >90

 

 

 

 

 

 

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