고순도 페로실리콘의 새로운 공정은 기존 방법의 단점을 극복하고 적합한 원료와 공정 조건을 선택하여 고급 규소강 제련 및 기타 용도에 적합한 고순도 페로실리콘을 생산합니다. 엄선된 규암 + 석유 코크스(또는 석유 코크스에 소량의 기타 탄소를 더한 것) + 규소강 칩을 이용한 고순도 페로실리콘 생산, 광열로 환원에서 석유 코크스 입자 크기 0-10mm, 최적 크기 0-5mm. 규암:석유 코크스:규소 강철 칩의 노 충전 비율=100:40-55:5-55, 기본량인 고정 탄소 함량에 대한 이 비율의 비율입니다.
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등급 |
화학성분(%) |
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시 |
알 |
S |
P |
C |
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최소 |
맥스 |
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70.0 |
2.0 |
0.05 |
0.05 |
0.3 |
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65.0 |
2.5 |
0.05 |
0.05 |
0.5 |
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Quartzite chemical composition (weight) requirements for SiO2>98.0%, Al2O3<0.03%, CaO <0.01%, and other impurities in addition to iron oxide less than 0.02% of the total. The impurity content of the resulting high-purity ferrosilicon products can be controlled in the following ranges; Si and Fe elements for the effective elements, according to the requirements of the use of the adjusted ratio. If necessary, according to the changes in the number of requirements for individual elements, can be in the liquid products out of the furnace into the chlorine gas for 20-40 minutes, 20 kg, or oxygen for 30-40 minutes, 5 kg, or water gas (H2 + H2O) 20-40 minutes, 5 kg, respectively.
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